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반도체 NF₃ 공급 배관 중성화 공정의 잔류가스 제거 거동 및 안전성 검증

Evaluation of Residual Gas Removal Behavior and Safety Verification in the Neutralization Process of Semiconductor NF₃ Supply Lines

목차

1. 서론 1
1.1 연구 배경 및 목적 1
1.2 NF₃의 특성 및 위험성 4
1.3 현장 중성화 절차와 문제점 5
1.4 선행연구 고찰 7
1.5 연구 목적 및 범위 11
2. 연구 및 해석 13
2.1 연구 대상 및 현장 조건 13
2.2 실험 배관 사양 14
2.3 중성화 실험 방법 15
2.4 TOF-MS 분석 방법 16
2.5 잔류 가스 제거 완료 기준 19
2.6 해석 이론 21
2.6.1 Knudsen 수 및 유동 영역 21
2.6.2 Bulk gas removal 23
2.6.3 Residual gas release 23
2.6.4 Virtual leak 해석 24
3. 결과 및 고찰 26
3.1 Pumping only 조건에서의 NF₃ 제거 거동 26
3.2 N₂ purge 30 분 조건에서의 가스 제거 거동 29
3.3 N₂ purge 60 분 조건에서의 가스 제거 거동 32
3.4 Case 별 제거 거동 비교 35
3.5 Bulk gas removal 과 residual gas release 의 구분 37
3.6 N₂ tailing 과 virtual leak 관점의 해석 39
3.7 기존 현장 중성화 절차와의 비교 40
3.8 데이터 기반 중성화 공정 개선 방향 및 실무적 시사점 42
4. 결론 45
참고문헌 (References) 47
Abstract 49

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