CCP 챔버의 RF 파형 개선을 위한 RF 필터 설계
Design of an RF Filter for RF Waveform Improvement in CCP Chambers
- 주제(키워드) HARC , Tailored Waveform , EMI/EMC
- 주제(DDC) 621
- 발행기관 아주대학교 IT융합대학원
- 지도교수 김정욱
- 발행년도 2026
- 학위수여년월 2026. 2
- 학위명 석사
- 학과 및 전공 IT융합대학원 IT융합공학과
- 실제URI http://www.dcollection.net/handler/ajou/000000035600
- 본문언어 한국어
- 저작권 아주대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
초록/요약
최근 3D 구조 메모리의 고집적화를 위해 높은 종횡비(High-Aspect- Ratio)를 갖는 식각 기술이 요구되며, 이를 위해 Pulse Current Generator 를 이용한 Capacitively Coupled Plasma 챔버 기반의 건식 식각 공정이 주목받고 있다. Pulse Current Generator 는 이온 에너지 분포를 조절하여 높은 종횡비 식각을 가능하게 하지만, 플라즈마의 불안정한 임피던스 특성으로 인해 출력 파형의 왜곡이 발생하며, Electrostatic Chuck 내부 Heater 전원장치 측으로 RF 노이즈가 유입되는 문제가 존재한다. 기존 Matching Network 기반으로 파형을 개선한 기술은 Sinusoidal Wave 조건에서만 적용될 수 있어 Pulse Current Generator 로 대표되는 Matchless System 에서는 대안이 될 수 없다. 본 연구는 Pulse Current Generator 기반 Capacitively Coupled Plasma 챔버의 등가회로를 제안하고, RF 파형 왜곡 및 노이즈 문제의 원인이 RF 필터 특성에 있음을 제시하였다. 이를 해결하기 위해 서로 다른 자기공진주파수를 갖는 3개의 권선을 서로 다른 2개의 자성체로 구현한 Novel L 을 제안하였다. Advanced Design System 시뮬레이션 및 실제 등가 회로 평가 결과, Novel L 로 제작한 RF 필터는 Single L 및 Series L 기반 RF 필터 대비 가장 우수한 임피던스 특성과 최소 Root Mean Square Error 를 보였다. 이를 통해 RF 필터 개선이 PCG 출력 파형의 왜곡을 줄이고 RF 노이즈 감쇠 능력을 향상시킴을 실험적으로 검증하였으며, 타 논문과 비교를 통해 감쇠 능력 측면에서도 우수함을 갖는 것을 확인하였다.
more목차
제 1 장 서론 1
제 2 장 RF 필터 설계 3
2.1 챔버 내 상황설명 3
2.2 RF 필터의 높은 광대역 레지스턴스 구현 7
2.3 CM 인덕터의 Q Factor 9
2.4 Single L 과 Series L 의 비교 12
2.5 Novel L 분석 16
2.6 RF 필터의 높은 광대역 감쇠 구현 21
2.7 RF 필터 평가 방법 정의 22
2.8 RF 필터 시뮬레이션 조건 정의 23
2.9 RF 필터 시뮬레이션 결과 분석 26
제 3 장 RF 필터 측정 29
3.1 RF 필터 측정 조건 정의 29
3.2 RF 필터 측정 결과 분석 32
3.3 시뮬레이션과 비교 35
3.4 타 연구와 비교 37
제 4 장 결론 39
참고문헌 40
