플라즈마 균일도 향상을 위한 이중 안테나의 전류 분배 회로 설계 및 제어
Design and Control of Current Distribution Circuit of Dual Antenna to Improve Plasma Uniformity
- 주제(키워드) 플라즈마 균일도
- 발행기관 아주대학교 IT융합대학원
- 지도교수 이교범
- 발행년도 2024
- 학위수여년월 2024. 2
- 학위명 석사
- 학과 및 전공 IT융합대학원 IT융합공학과
- 실제URI http://www.dcollection.net/handler/ajou/000000033644
- 본문언어 한국어
- 저작권 아주대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
초록/요약
플라즈마 처리 기술의 균일도 향상을 목표로 하는 본 연구에서는 유도성 결합 플라즈마(Inductively Coupled Plasma, ICP)의 효과적인 전류 분배를 위한 방법 을 제시한다. 기존 연구의 한계를 극복하고 플라즈마 공정의 균일도를 개선하기 위해 내측과 외측 안테나에 가변 진공 커패시터를 도입하고, 전류 분배 회로의 최적 설계를 통하여 넓은 범위의 안테나 전류 비율을 조절 가능하도록 한다. 그리고 정밀한 플라즈마 균일도 조절을 위하여 가변 진공 커패시터 제어에 마이크로 스텝 기법을 적용한다. 결과적으로 제안된 전류 분배 회로는 임피던스 정합 시스템과 호환되는 범위 내에서 내측과 외측 안테나의 전류 비율이 1 : 0.1 ~ 1 : 4까지 조절 가능하도록 설계하고, 가변 진공 커패시터와 연결되는 스텝 모터의 마이크로 스텝 기술을 통해 변동성이 큰 조건에서 세밀한 전류 분배를 가능하도록 한다. 마이크로 스텝 기술을 이용한 가변 진공 커패시터의 정밀성 실험과 전류 분배 회로의 전류 비율에 대한 시뮬레이션을 수행한다.
more목차
제 1 장 서론 1
제 2 장 가변 진공 커패시터의 정밀 제어 2
2.1 가변 진공 커패시터를 이용한 안테나 전류 분배 2
2.2 가변 진공 커패시터의 정밀 제어 필요성 4
2.3 스텝 모터의 마이크로 스텝 기술 7
제 3 장 임피던스 정합 가능한 전류 분배 회로 10
3.1 임피던스 정합 12
3.2 임피던스 정합 가능 범위(Smith Chart) 12
3.3 안테나 전류 분배 회로 설계 14
제 4 장 실험적 검증 및 시뮬레이션 결과 16
4.1 커패시턴스 측정과 마이크로 스텝 적용 전후 비교 16
4.2 최적 설계된 전류 분배 회로의 시뮬레이션 17
제 5 장 결론 21
참고문헌 22
Abstract 24
