CCP type 식각공정에서의 wafer 균일도 향상을 위한 연구
A Study on Uniformity Improvement in a Capacitively-Coupled-Plasma Etching Process
- 주제(키워드) Semiconductor
- 발행기관 아주대학교
- 지도교수 김상배
- 발행년도 2014
- 학위수여년월 2014. 8
- 학위명 석사
- 학과 및 전공 IT융합대학원 IT융합공학과
- 실제URI http://www.dcollection.net/handler/ajou/000000017967
- 본문언어 한국어
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