60nm급 포토 리소그래피 공정에서의 광원의 편광과 조리개 패턴의 영향에 관한 연구
- 발행기관 아주대학교
- 지도교수 김상인
- 발행년도 2013
- 학위수여년월 2014. 2
- 학위명 석사
- 학과 및 전공 IT융합대학원 IT융합공학과
- 실제URI http://www.dcollection.net/handler/ajou/000000016203
- 본문언어 한국어
- 저작권 아주대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
목차
1장. 서론 1
1-1.연구 배경 1
2장. 도포 공정의 감광처리 3
2-1 도포공정의 감광제의 특성 3
2-2 회전속도에 따른 두께변화 실험 5
2-3 도포 실험 요약 7
3장. 광 마스크 제조 (노광 시스템)의 특성 연구 8
3-1 편광의 특성 8
3-2 편광의 종류 9
3-3 빛의 편광 – 편광자 13
3-4 복 굴절의 특성 15
3-5 편광 효과 16
4장. 리소그래피을 이용한 조명 조건별 패턴 특성 연구 19
4-1 Numerical Aperture에 따른 DoF(Depth of focus)평가 20
4-2 Un-Polarization/XY-Polarization Source에 대한 DoF평가 22
4-3 조명 Mode에 따른 Pattern 영향 성 23
4-4 조명 Mode에 따른 Depth of Focus 영향성 평가 24
5장. 결론 26
참고문헌 27
